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硅通孔三维封装技术
更新时间:2021-10-29 12:17:48 最新章节:参考文献
书籍简介
硅通孔(TSV)技术是当前先进性最高的封装互连技术之一,基于TSV技术的三维(3D)封装能够实现芯片之间的高密度封装,能有效满足高功能芯片超薄、超小、多功能、高性能、低功耗及低成本的封装需求。本书针对TSV技术本身,介绍了TSV结构、性能与集成流程、TSV单元工艺、圆片级键合技术与应用、圆片减薄与拿持技术、再布线与微凸点技术;基于TSV的封装技术,介绍了2.5DTSV中介层封装技术、3DWLCSP技术与应用、3D集成电路集成工艺与应用、3D集成电路的散热与可靠性。
上架时间:2021-09-01 00:00:00
出版社:电子工业出版社
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- 会员本书围绕SI消除/抑制的一般问题展开讨论,并描述各种场景下实现CCFD的方法。第一章描述了传统双工系统(FDD和TDD)的特点,显示两种传统系统克服SI的方法,并明晰了半双工的概念;第二章简述了关于CCFD发明的由来、频谱效率增益问题,以及实现双向通信的困难根源;第三章至第五章描述了SI消除方法和简单系统应用;第六章描述组网方法和相关研究;第七章讨论了CCFD低轨卫星设计;第八章介绍了在物理层安全工业4.9万字
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